產品與技術
PRODUCTS AND TECHNOLOGY
6英寸碳化硅化學氣相沉積外延設備
碳化硅外延設備是用于碳化硅芯片生產的核心環(huán)節(jié)—外延薄層生長的專用設備，這一過程是制造電力電子器件，如二極管、功率半導體器件的關鍵步驟，納設智能的6英寸碳化硅外延設備，采用水平熱壁技術路線實現(xiàn)單片式生長，兼容6英寸、4英寸外延片，設備性能可靠，已穩(wěn)定量產。
● 精確：氣路獨立可控 ● 精湛：工藝指標優(yōu)異 ● 低耗：耗材成本更低 ● 省時：維護頻次更低 ● 進階：NP型靈活切換
8英寸碳化硅化學氣相沉積外延設備
納設智能碳化硅外延設備采用水平熱壁的技術路線實現(xiàn)單片式外延生長，兼容8英寸、6英寸外延片，溫場流場等結構穩(wěn)定，耗材成本、維護頻次更低，設備工藝指標優(yōu)異，厚度均勻性、濃度均勻性、缺陷密度等均達到行業(yè)先進水平。
● 創(chuàng)新腔室結構：打造更穩(wěn)定腔室環(huán)境，生長缺陷更少 ● 多區(qū)獨立進氣：工藝氣體獨立控制，工藝調整更靈活 ● 設備維護簡單：調整設備結構設計，周期維護更容易 ● 量產成本更低：耗材種類及數(shù)量更少，降低量產成本