空間型原子層沉積設(shè)備
通過物理分隔反應(yīng)區(qū)實(shí)現(xiàn)空間交替：基板在移動中依次經(jīng)過前驅(qū)體A區(qū)、惰性氣體吹掃區(qū)、前驅(qū)體B區(qū)，單次循環(huán)即可完成原子層沉積。
薄膜性能：片內(nèi)/片間/批次間不均勻性＜±5%，折射率不均勻性＜±3%（不均勻性=(最大值-最小值)/(最大值+最小值)） 產(chǎn)品特色：A源B源氣路獨(dú)立，工藝距離可調(diào)，源瓶壓力可控，自動傳片及取片，可擴(kuò)展腔體及氣路數(shù)量，支持客戶定制
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通過物理分隔反應(yīng)區(qū)實(shí)現(xiàn)空間交替：基板在移動中依次經(jīng)過前驅(qū)體A區(qū)、惰性氣體吹掃區(qū)、前驅(qū)體B區(qū)，單次循環(huán)即可完成原子層沉積。
薄膜性能：片內(nèi)/片間/批次間不均勻性＜±5%，折射率不均勻性＜±3%（不均勻性=(最大值-最小值)/(最大值+最小值)）
產(chǎn)品特色：A源B源氣路獨(dú)立，工藝距離可調(diào)，源瓶壓力可控，自動傳片及取片，可擴(kuò)展腔體及氣路數(shù)量，支持客戶定制
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